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近位抽取多通道激光氨逃逸在线分析系统


一、项目概述

      近位多通道激光氨逃逸分析系统是在近位抽取基础上,针对监测烟道较大,为使测量更具代表性,需要多点监测的用户需求,或者是需要多个监测烟道同时测量、一个仪表控制的用户需求。用户根据多路氨逃逸的测量数据,优化、调整喷氨工艺,可以提高脱硝效率。近位多通道激光氨逃逸分析系统一个仪表控制多路氨逃逸测量系统,具备近位抽取激光氨逃逸分析系统的所有特点。

二、测量原理

      系统采用可调谐半导体激光吸收光谱(TDLAS)技术进行NH3的测量,以可调谐激光器作为光源,发射出特定波长激光束,穿过待测气体,通过分析被测气体中NH3分子吸收导致的激光光强衰减,根据朗伯比尔定律,气体浓度与其吸收光强成比例关系,从而实现高灵敏快速精确监测待测气体中NH3浓度。因为激光谱宽特别窄(小于0.0001nm),且只发出待测气体吸收的特定波长,使得测量不受测量环境中其它成分的干扰,相比其它复合光源而言,具有极高的测量精度。

   朗伯比尔定律:    

                   

   其中光谱吸收系数:

                       

三、测量方案

      根据脱硝氨逃逸测量点高温、高湿、高粉尘、震动等工况特点以及测量浓度低、测量精度要求高等要求,方案采用了大方科技经典的近位抽取+多反长光程测量池技术,一个仪表控制多路氨逃逸测量,每一路都有单独的近位抽取分析测量系统

      系统由多路取样分析单元和仪表组成,每路取样分析单元单独安装于烟道上,烟气经采样探头取样后直接进入各自样气室进行测量分析,无须伴热管线。采用抽取方式可以避免烟尘和烟道振动等对测量的影响。近位抽取方式则避免了伴热管线传输造成的响应时间的影响。烟气流经管路及样气室全部采用高温加热,保证烟气取样过程中无氨气吸附。分析单元采用多次反射样气室,测量光程可达30米,可大大提高检测下限。 

四、系统特点

1 采用TDLAS技术,不受背景气体影响

      系统采用可调谐二极管激光吸收光谱技术进行气体的测量,由于激光谱宽特别窄(小于0.0001nm),且只发射待测气体吸收的特定波长,使测量不受测量环境中其它成分的干扰。

2 系统无漂移,避免了定期校正需要

      系统采用波长调制光谱技术,并且进行动态的补偿,实时锁住气体吸收谱线,不受温度、压力以及环境变化的影响,不存在漂移现象。

3 全程高温伴热,避免氨气吸附损失

      抽取气体直接进入气室,不需要经过伴热管线,烟气接触的流路全程高温伴热无冷点,避免氨气吸附和损失,保证样气真实性。

4 采用多次反射样气室,极大地提高测量精度

      系统采用多次反射测量池技术,光程可达30米,极大地提高了测量精度。

5 多路测量,更有代表性

      单个仪表可以控制多达六路监测,每路皆具有自动反吹控制,反吹间隔和反吹时长根据工况设置,有效避免滤芯堵塞,测量更有代表性。

6 安装使用方便

      分析系统适合安装在不同工业环境下,模块化设计,安装方便,开机预热后便可正常运行无需进行现场光路调试。滤芯采用覆膜工艺制造,后置安装,无需专业工具拆卸,更换和清理极其方便。

7 专利技术,便于维护光学器件

      大方科技特有的样气室设计,包含维护窗口,可以在不影响光路的情况下,对污染的光学器件进行清洁,无需重新调节光路,让维护更加快速方便。

8 仪表自检及自恢复功能

      大方科技分析仪带有智能自检及自恢复功能,软件可以自动探测分析仪的测量异常状态,可以通过自检及自恢复,使分析仪重新恢复最佳测量工作状态。

9 自主知识产权

      大方科技深耕TDLAS技术领域20年,针对国内应用现场监测难点进行专业和定制化开发,拥有数十项发明专利和软件著作权,对产品拥有完全自主知识产权,产品具有高可靠性和适用性。

五、典型应用:

      大型机组、自备电厂脱硝氨逃逸监测;

      工业锅炉脱硝氨逃逸监测; 

      炼焦企业脱硝氨逃逸监测。

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