欢迎进入大方科技!

   近位多通道激光氨逃逸分析系统是在近位抽取基础上,针对监测烟道较大,为使测量更具代表性,需要多点监测的用户需求,或者是需要多个监测烟道同时测量、一个仪表控制的用户需求。近位多通道激光氨逃逸分析系统具备近位抽取激光氨逃逸分析系统的所有特点。


一、产品主要特点
1.仪表和测量单元分离,仪表可放置在室内,避免恶劣的外部环境;
2.抽取气体直接进入气室,不需要经过伴热管线,烟气接触的流路全程高温伴热250℃以上无冷点,避免氨气吸附和损失,保证样气真实性;
3.滤芯采用覆膜工艺制造,后置安装,无需专业工具拆卸,更换和清理极其方便
4.国内首家实现多次反射技术,光程可达30米,极大地提高测量精度和检测下限;
5.大方科技特有的样气室设计,专利技术,包含维护窗口,可以在不影响光路的情况下,对污染的光学器件进行清洁,让维护更加快速方便;
6.每个通道皆具有自动反吹控制,反吹间隔和反吹时长根据工况设置,有效避免滤芯堵塞;
7.单个仪表可以控制多达六路监测(也可根据用户需求定制)。

二、典型应用

  大型机组、自备电厂脱硝氨逃逸监测;
  工业锅炉脱硝氨逃逸监测;
  炼焦企业脱硝氨逃逸监测;
  化工厂脱硝氨逃逸监测;
  氨法脱硫氨逃逸监测。



北京大方科技有限责任公司      

地址:北京市海淀区北三环中路44号C座4层B412  邮编:100088   电话:010-62202160   传真: 010-62220170   服务专线:400-777-1718   京ICP备10018062号