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大方科技氨逃逸分析系统荣获北京市科学技术奖


2018年2月5日,北京市科学技术奖励大会召开,会议宣读了关于2017年度北京市科学技术奖励的决北京大方科技“多点抽取式高精度脱硝氨逃逸激光在线分析系统开发与应用”项目凭借多项开拓性技术创新和优秀的产业化成绩,荣获该年度科学技术奖。市委书记蔡奇市委副书记、市长陈吉宁出席大会为科技工作者颁奖

作为环保脱硝的关键监测设备,氨逃逸在线分析系统的准确测量关系到生产效率和设备安全,是火电、水泥、陶瓷等行业不可或缺的监测设备之一。大方科技基于自身掌握的TDLAS核心技术,结合国内脱硝实际工况环境,开发的多点抽取式高精度脱硝氨逃逸激光在线分析系统,经过大量案例实践证明,成功解决了现有脱硝氨逃逸在线分析仪表取样代表性不足、缺乏趋势相关性等问题。研究成果提升了氨逃逸监测技术水平,对保障烟气脱硝系统安全经济运行起到了积极作用,具有良好的社会效益、经济效益和推广应用前景。


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